技术参数：

     新材料是指新近发展或正在研发、性能超群的一些材料，公司生产的超纯水设备满足各种需求的新型材料技术，而新材料加工用超纯水设备正是应用于该行业用水需求，保证设备的出水品质。

   LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

   我司生产的超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

   电去离子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下,通过隔板的水中电介质离子发生定向移动,利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间,通常由阴膜,阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列,构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离子可透过阴膜).淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜,被浓室中的阴膜截留;水中阴离子向正极方向迁移阴膜,被浓室中的阳膜截留,这样通过淡室的水中离子数逐渐减少,成为淡水,而浓室的水中,由于浓室的阴阳离子不断涌进,电介质离子浓度不断升高,而成为浓水,从而达到淡化,提纯,浓缩或精制的目的。

一、水质指标与推荐使用行业：

电导率≤10μS/CM

普通电镀行业冲洗用去离子水(镀锌、镀铜、镀镍等)，普通化工原料配料用

水，清洗机配套清洗用水，纺织印染用除硬脱盐去离子水，涂装行业，表面处

理、铝氧化，聚酯切片用水，锅炉补水，食品行业配料用水，纯净水，直饮水，

饮料用水等。

电导率≤4μS/CM

制药、医疗行业无菌无热源纯化水，医疗血液透析用水，日化行业生产用水、化

工行业表面活性剂生产用水，水性涂料用水、清洗液配料用水，纯净水，直饮

水，饮料用水，白酒勾兑用水，啤酒制取用水等。

电阻率≥5MΩ.CM

制药、医疗行业无菌无热源纯化水，蓄电池(铅酸、锂、锌锰)用水，化妆品生

产用水，化工配料用水，电厂锅炉用水，微电子电力行业用水，化学实验用水，

塑胶生产用水等。

电阻率≥10MΩ.CM

电镀行业用水(镀金、镀银等)，分析实验室用水，玻壳镀膜冲洗用水，镀膜用

水,高纯墨水用水等。

电阻率≥15MΩ.CM

医药生产用无菌水，生物工程用水，高级化妆品生产用水，镀膜用水，光学材料

清洗用水，电子陶瓷行业用水，磁性材料用水，硅片清洗用水，精细化工生产用

水,高纯墨水生产用水等。

电阻率≥18MΩ.CM

磁性材料用水，半导体材料用水，敏感材料用水，尖端金属材料用水，纳米级新

材料用水，航空材料用水，有色金属与贵金属冶炼用水，太阳能光伏行业(单晶

硅、多晶硅、太阳能电池、氧化铝坩埚、光伏玻璃)，微电子电力行业用水，超

纯材料用水，超纯化学试剂配料用水，电子级无尘布生产用水等。